Het boek is momenteel niet op voorraad
Meer over het boek
Inhalt: In diesem Tagungsband werden u. a. Themen aus folgenden Bereichen behandelt: Advanced Mask Technology, Mask Defect and Inspection, Photomask Pattering, Mask Metrology and Measurements, Optical Proimity Correction and Resolution Enhancement techniques, Next generation Mask (NGM), Next Generation Lithography (NGL), Mask Error Enhancement Factor, MEEF, Concept of Manufacturing Procedures, EMC, OPC., u. a. Die GMM-Fachberichte können auch im Abonnement bezogen werden!
Een boek kopen
EMC 2003, Uwe Behringer
- Taal
- Jaar van publicatie
- 2003
- product-detail.submit-box.info.binding
- (Paperback)
Zodra we het ontdekt hebben, sturen we een e-mail.
Betaalmethoden
Nog niemand heeft beoordeeld.