Magnetische Formgedächtnislegierungen (MFGL) mit Ni-Mn-Ga als bekanntesten Vertreter sind eine noch relativ neue adaptive Materialklasse, die eine Dehnung von bis zu 11 % aufweist. In der Dissertation werden bestehende MFGL-Aktoren optimiert und neue Konzepte für neue Anwendungen entwickelt. Im Rahmen dieser Zielsetzung werden MFG-Legierungen eingesetzt, die mit einer weiterentwickelten Kristallzüchtungsmethode hergestellt worden sind. Die Charakterisierung der aktorischen Eigenschaften dieser neuen MFG-Legierungen ist daher ein weiteres Ziel dieser Arbeit.
