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Simulation polychromatischer Fernfeld-Specklemuster für die laseroptische Rauheitsmessung unter Berücksichtigung der für unterschiedliche Fertigungsverfahren charakteristischen Oberflächen-Mikrotopographien

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Simulation polychromatischer Fernfeld-Specklemuster für die laseroptische Rauheitsmessung unter Berücksichtigung der für unterschiedliche Fertigungsverfahren charakteristischen Oberflächen-Mikrotopographien, Hengbiao Liu

Taal
Jaar van publicatie
2001
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