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Patentrecht

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Zum Werk Diese praxisnahe Einführung stellt das moderne Patent- und Gebrauchsmusterrecht, auch unter dem Gesichtspunkt des internationalen Schutzes, nebst den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar. Das Werk behandelt u. a.: - Gegenstand, Voraussetzungen und Wirkung des Patentschutzes - Das Patent im Rechtsverkehr - Patentverletzung - Patentverletzungsprozess - Patenterteilungsverfahren - Patentnichtigkeitsverfahren - Arbeitnehmererfindungsrecht - Gebrauchsmusterrecht Im Anhang sind u. a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften nebst Merkmalsanalyse dargestellt. Vorteile auf einen Blick - mit den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht - mit internationalem Rechtsschutz - mit Enforcement-Richtlinie Zielgruppe Für Rechtsreferendare, Rechtsanwälte, Patentanwälte (in der Ausbildung), Studenten (Rechtswissenschaft und technische Berufe), Richter, Erfinder, Rechtsabteilungen von Wirtschaftsunternehmen.

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Patentrecht, Christian Osterrieth

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Jaar van publicatie
2007
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(Paperback)
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